이온빔 소스는 반도체 박막 세정과 광학렌즈 등의 코팅시 필수적으로 사용되는 최첨단 장비다. 이번에 개발된 이온빔 소스는 최대 60mm의 넓은 면적에 균일한 이온빔을 쏘일수 있고 외국 제품에 비해 비교적 높은 에너지(50-1500eV)를 얻을 수 있다. 또한 대부분의 이온을 불활성 가스와 활성가스 등에서 손쉽게 얻어 활용할 수 있는 특징이 있다.
이 같은 특징으로 반도체나 광학렌즈 등의 표면에 이온을 충돌시켜 미세한 오염물질을 제거할 수 있는 세정효과에 탁월하다. 이온 밀링용으로 활용할 수 있다. 이온 빔 소스를 기판 표면에 가속시켜 선택된 부분을 깎아내는 반도체 식각공정에도 적용할 수 있다. 이밖에 광자기디스크와 같은 초전도체나 자성체 등 화합물 코팅에 유용하게 활용할 수 있다.
현재 이 제품은 각 연구소를 비롯 대학 등에 납품되고 있으며 해외시장 진출을 위해 적극적으로 나서고 있다. 이 회사는 이온빔 소스외에 전자를 이용해 반도체 표면의 원자배열구조를 판별해내는 '알히드 시스템(RHEED System)'을 개발, 출시해 놓은 상태다.
김도윤 사장은 "그동안 외국제품 일색인 이온빔 소스를 국산화 했다는 점에 그 의미가 있다"면서 "타제품보다 가격이 30%가량 저렴하고 사용자가 요구하는 방식에 맞게 제작할 수 있는 경쟁력을 갖고 있다"고 말했다.
한편 브이에스아이는 지난 2000년 설립된 이온 건을 비롯 진공 관련 과학장비를 전문적으로 개발 생산하는 기업이다.
자본금 5억5천만원, 직원은 15명이다.
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