개발된 기술은 참여기업인 새한나노텍과 14억 원의 기술이전 계약을 맺고 미국 캘리포니아대 샌디에고 캠퍼스(UCSD) 등 총 4곳에 판매됐으며, 현재 국내 기업에서의 상용화를 추진 중이다.

이 박사팀이 새로 개발한 장비는 10 ㎚ 오버레이 측정시스템과 일체형 나노-마이크로 정렬 스테이지를 탑재해 정렬 정도와 공정의 정밀도를 높였다. 기존의 나노 임프린트 장비는 20 ㎚급 오버레이 측정장치와 적층방식의 나노-마이크로 스테이지를 탑재해 나노 임프린트 공정이 구현되는 장비였다.

새로운 장비는 이전보다 신속하고 정확하게 나노 소자를 대량 생산할 수 있어 6인치의 웨이퍼에 16 ㎚급 모스펫(MOSFET·반도체소자), 1 테라비트 하드 디스크 드라이브, LED, 나노광통신 소자와 나노바이오 소자 등의 나노 구조패턴을 빠르고 정확하게 대량 생산할 수 있다.

이재종 박사는 "이번에 개발한 장비는 수㎚급의 정밀도를 바탕으로 대면적 나노패터닝을 가능케 한 핵심 원천기술의 집합체로, 향후 관련 산업계에 큰 파급 효과를 기대할 수 있다"고 말했다.