특허청(청장 김호원) 소속기관인 특허심판원은 LG화학의 리튬 2차전지 분리막 특허(특허 제775310호)에 대한 무효심판의 심결에서 심판청구인인 SK이노베이션의 무효주장을 받아들여 LG화학의 분리막 특허를 무효로 결정했다고 9일 밝혔다.

이번에 문제가 된 LG화학의 분리막 특허는 기존 분리막에 도포된 활성층의 기공 구조를 이용함으로써 기존 분리막에 비해 열수축과 전기적 단락이 발생하지 않아 전지의 성능과 안정성을 개선한 기술로 알려져 있다. 특허심판원은 이번 무효 결정의 이유에 대해 특허의 핵심 기술인 분리막에 도포된 활성층 기공 구조에 대한 특허청구범위가 너무 넓어 선행기술에 개시된 분리막의 기공 구조를 일부 포함하고 있고, 효과에 있어서도 전지의 성능과 안정성을 개선한 일부 효과 또한 차이가 없는 부분이 있어서 LG화학의 특허가 선행기술로부터 신규성이 부정된다고 전했다.

이번 무효 결정은 2차전지 시장이 급속도로 성장하고 있는 과정에서 대기업 간의 특허분쟁에 대해 전문기관인 특허심판원의 판단이라는 점에서 의의가 있다. 한편, 이번 특허침해 소송은 지난해 12월 LG화학이 자사의 분리막 특허를 SK이노베이션측이 침해했다는 이유로 소송을 제기했고, 이에 대응해 SK이노베이션이 LG화학의 분리막 특허에 대해 무효심판을 청구한 바 있다. LG화학의 분리막 특허에 대한 무효 여부 확정은 LG화학이 특허심판원에 정정심판을 청구할 가능성도 있어 앞으로 특허법원과 대법원의 판단을 더 지켜봐야 할 것으로 보인다.